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本研究所の構成員の方を対象に、
下記の通り平成30年度の安全衛生講習会を開催致します。
お忙しいところ誠に恐れ入りますが、ご出席下さいますようご案内いたします。
また、各研究室におかれましては、構成員すべての方に出席をご周知下さい。
対象:常勤・非常勤教職員、学生、研究員等を含む研究所構成員全員
日時:平成30年4月12日(木)
午前の部:10:30~11:30(11:30~12:00は情報セキュリティ講習会)
午後の部:15:30~16:30(16:30~17:00は情報セキュリティ講習会)
場所:ナノ・スピン棟4F カンファレンスルーム
安全衛生講習会終了後、午前、午後とも引き続き「平成30年度情報セキュリティ講習会」を行います。
平成30年度研究基盤技術センター利用説明会を下記の通り開催いたします。
研究基盤技術センターの利用につきまして新規で利用する場合には、
利用説明会の出席が必須となります。
分野責任者及び利用責任者の皆様にはくれぐれもこの点をご理解頂き、
配属学生へ周知下さいます様お願い申し上げます。
利用に関するお問い合わせは研究基盤技術センター(内線5571)まで
ご連絡下さるようお願い致します。
日時:平成30年4月19日(木)15:30~
場所:ナノ・スピン棟4F カンファレンスルーム
プログラム:
・工作部
実験機器の設計・製作依頼、工作機械の使用
・評価部
共通利用機器について
ヘリウムサブセンター(液体寒剤の供給)
ガラス工作室 (ガラス器具製作)
・プロセス部
薄膜作製 共通利用機器について
研究基盤技術センターでは、
各種高周波デバイス評価システムの共通利用の提供を開始します。
システムの概要をウェブページ上で公開<ここをクリック※学内限定>しますので、
活用をご検討下さい。
見学の希望や利用方法について不明な点・詳細については、
評価部:丹野(内線5571)までお問い合わせ下さい。
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電気通信研究所においては、基礎科学から応用通信工学に広がる幅広い学問領域において先駆的な研究がこれまでになされてきた。伝統的には、技術職員は卓越した技量と経験を通してこれらに貢献してきた。将来に向かってこのような貢献が加速されるために、全ての技術職員と一名の助教が加わった研究技術基盤センターが2007年に設立された。センターは以下の4技術部を通して、機械工作や、理化学計測、材料加工、情報管理のための様々な技術を提供している。 工作部は先導的な機械工作技術を提供している。研究室の要求を満たす実験機器(図1)の提供が可能である。また、機械工作を行う教職員や学生への指導も行っている。評価部は、X線回折装置(図2)や電子ビーム蛍光X線元素分析装置(図3)のような評価・計測装置の提供を行う。ガラス工作品の提供も可能である。また、寒剤の供給を受け持っている。プロセス部は、ナノ・スピン実験施設共通部と協力して、ナノメータースケールの電子線リソグラフィー技術を提供している。また、光学多層薄膜の堆積や試験を行うための設備も利用可能である。情報技術部は、やわらかい情報システム研究センターと協力して、研究所内のネットワークを運営すると共に共通利用の情報機器の管理を行っている。加えて、本研究所で生まれた革新的な技術を世界に発信していく際に重要な、知的財産に関する情報の収集と管理に従事している。

研究基盤技術センター長
佐藤 茂雄


センターについて

Person

工作部

情報関連、光、音、半導体材料等幅広い研究分野、実験施設等から実験装置・機器類の製作依頼を受け依頼品の製作を行っている。高度情報通信に関わる精密工作を始め材料研究のための超高真空装置とその内装部品等外注では対応できない研究所独自の実験装置・機器類の設計・製作を行っている。

1.ティグ(TIG:Tungsten Inert Gas)溶接技術
(1)ステンレス製超高真空容器溶接技術
(2)アルミ合金製超高真空容器溶接技術
(3)ステンレス薄物(t0.1mmベローズ等)溶接技術
(4)異種金属の溶接技術(無酸素銅-ステンレス  無酸素銅-銀 等)
2.超高真空対応リークテスト技術
3.旋盤・フライス盤等の精密加工技術(LEED)
4.教職員・研究生・大学院生・学生等への設計・製作指導

技術長 末永 保

グループ長 阿部 健人
前田 泰明
関谷 佳奈

Person

評価部

所内の研究分野からの要望のもと、電気・電子や光信号の情報処理・計測に関連した大型装置の保守・管理、研究に必要な実験装置の開発、製作および計測機器の運用に必要な冷却用液体窒素の製造・供給および液体ヘリウムの供給・回収を行っている。

1.共同利用実験装置およびプロジェクトクリーンルームの保守・管理
2.安全衛生に関する技術支援
3.理化学用ガラス全般の設計・開発・試作および修理
4.液体窒素の製造・供給
5.液体ヘリウムの供給・ヘリウムガスの回収
6.高圧ガス製造設備の運転・点検・保守管理

グループ長 阿部 真帆
丹野 健徳
柳生 寛幸
庄子 康一

process

プロセス部

研究の多様化に伴い、電子・光等の通信・情報処理関連装置の技術開発、さらに研究遂行上必要な装置、部品等の製作(特殊誘電体多層膜コーティング、薄膜製造技術)や研究環境の維持・管理を行っている。

1.真空蒸着による高品質多層膜反射鏡の製作・開発
2.光学結晶や光学部品への特殊誘電体多層膜コーティング法の開発・設計
3.リソグラフィ関連装置の保守管理
4.電子ビーム露光装置JBX-9300FSを用いた研究協力

グループ長 森田 伊織
小野 力摩
武者 倫正







infotech

情報技術部

研究所の要望に応える情報サービスを提供するため、所内ネットワーク及び情報システムの保守・管理・運用及び情報収集・組織化・利用・発信等に関する業務を行っている。加えて、研究所で生まれた革新的な技術を世界に発信していく際に重要な、知的財産に関する情報の収集と管理に従事している。

1.電子計算機・ネットワークの保守・管理
2.各種ネットワークサービスの提供
3.技術的支援と広報
4.知的財産の情報収集と管理

グループ長 佐藤 正彦
丸山 由子
太田 憲治

お問い合せ

技術相談窓口

[共同装置の利用について]
下記の装置は学外の方もご利用になれます。
(装置番号は共同利用装置パンフレットに対応しております)
6. 超精密格子定数測定用X線回折装置
7. 高分解能X線回折装置
8. X線励起蛍光X線元素分析装置
9. 高分解能走査型電子顕微鏡
10. 電子ビーム蛍光X線元素分析装置
[技術相談]
東北大学電気通信研究所・研究基盤技術センターでは技術相談を受け付けております。
希望される方は まででご連絡ください。
※現在のところ一部の技術については相談を東北大学内のみとさせていただきます。

問合せ窓口

センターに関すること
技術長 末永 保
TEL,FAX:022-217-5536

通研全体に関すること
通研総務係
TEL:022-217-5420 FAX:022-217-5426

センター受付
TEL:022-217-5571 FAX:022-217-5572
工作部管理室
TEL,FAX:022-217-5536
評価部・ガラス工作室・ヘリウムサブセンター
TEL:022-217-5571 FAX:022-217-5572
プロセス部加工室
TEL,FAX:022-217-3720

アクセス

東北大学電気通信研究所


大学名:国立大学法人東北大学

部局名:電気通信研究所

部署名:研究基盤技術センター

住所:宮城県仙台市青葉区片平2-1-1

電話番号:022-217-5536